膜厚測定装置QC-Velox

単結晶用 高速/高分析能X線回折装置(HRXRD) QC-Velox

基本情報

QC-Velox
装置名
QC-Velox(高速/高分解能X線回折装置)
製造元
Jordan Valley Semiconductors Inc.

主な特長

アプリケーション

基本仕様

ウエハーサイズ ø2″~ø12″
測定光学系 高速/高分解能X線回折装置(HRXRD)
計測材料 GaN、SiC、GaAs、GaP、InP、AlN、サファイア、シリコンなどの単結晶
(LED、LD用 MQW、 SuperLattice、各種MOCVD膜の開発など)
測定項目 結晶性、膜厚、組成、緩和率、逆格子マップ(RSM)など
装置サイズ W 1050×D 1110×H 1630 mm(突起部、付属品除く)
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