高性能ランプアニーリング装置mattson Millios Rapid Thermal Annealer概要

次世代デバイス向けミリ制御の高速アニーリング装置 mattson Millios

基本情報(商品構成)

Millios Rapid Thermal Annealer
装置名
mattson Millios
製造元
Mattson Technology

特長

32nmプロセス以降の次世代デバイス向け高速アニーリング装置

基本仕様

ウエハーサイズ 300mm
適応プロセス温度 Intermediate temp:700~1000℃
Flash lamp temp:+550℃
昇温レート Lower lamp:50~150 ℃/s
Flash lamp:1E5℃/s以上
熱処理設定時間 10sec以下
(スパイクアニール+ミリ秒アニールの連続処理が可能)
温度制御 表面:Ultra-fast radiometer
裏面:Ultra-fast radiometer + Integrated emissometer for real time emissivity compensation"
ガスライン 標準2系統
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