EUV露光計測装置Hydrogen Radical Cleaner HC-11

基本情報

装置名

HC-11

製造元

euv tech社（アメリカ）

主な特長

“ Hydrogen Radical Cleaner HC-11”は、レジストアウトガスモニター機によって堆積したWitnessSample上の汚染物を水素ラジカルの還元反応を利用して除去する装置です。
本装置は、高真空、高クリーンな環境下で汚染物を除去することが可能です。EUVレジスト用に開発された装置で、最先端半導体の研究機関に導入されています。

アプリケーション

適用デバイス

Witness Sample（1インチのウエハ）

適用工程

クリーンナブルなコンタミネーションの除去（製品開発、品質管理）